KLA Candela 900 / 920表面缺陷及EPI外延缺陷检测设备

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KLA Candela 900 / 920表面缺陷及EPI外延缺陷检测设备
 
 
 
 

应用

◆ 适用于Si硅片及GaN外延片,SiC基片及SiC外延片表面缺陷及EPI外延缺陷的检测分析,包含微粒、划伤、坑点、污染、痕迹,同时也可以添加PL功能用以检测某些GaN EPI缺陷及SiC EPI缺陷。该设备可以兼容透明片和不透明片。

主要功能

◆ KLA-Tencor Candela 900 / 920表面缺陷及EPI外延缺陷检测设备是针对化合物半导体行业(Si硅片及GaN外延片,SiC基片及SiC外延片)的缺陷的检查分析仪器。该设备利用激光扫描样品的整个表面,通过4个频道(散射光频道、反射光频道、相移频道及Z频道)的探测器所收集到的信号,快速的将缺陷(包括微粒、划伤、坑点、污染、痕迹等)进行分类,统计每一种缺陷的数量并且量测出相应的缺陷尺寸,最后给出整个表面的缺陷分布图以及检测报告。根据预先设定的标准,可以给出检测样品合格与否的判断。同时可以添加的PL功能可以针对化合物外延材料进行高精度的外延缺陷检测,在化合物外延领域拥有很高的市场占有率。

主要特点

◆ 标准夹具从2英寸到8英寸的样品,也可按需订制方片和碎片夹具; 
◆ 可用于不透明及透明的材料的表面缺陷检测; 
◆ 可侦测的缺陷类型:颗粒,划伤,突起,凹坑,水渍等; 
◆ 可侦测化合物外延材料的专有外延缺陷(包含SiC外延,GaN外延);
◆ 手动900和自动传输模式920;  
◆ 高精度的颗粒缺陷灵敏度(80nm直径); 
◆ 强大的自动缺陷分类、统计分布和判别软件。缺陷分布图以及检测报告内的每一个缺陷都有4个频道拍到的照片储存在设备内部,这些照片可以辅助技术人员分析缺陷的成因及进行相关验证。 
◆ 内部的过滤器可以保证内部的洁净环境为10级,防止内部污染的同时该仪器还能长期保持稳定准确。拥有優秀的售后服务保障体系。
 

应用行业

◆ 化合物基片: SiC基片,GaN基片,Si基片
◆ 化合外延片:SiC外延片,GaN外延片