Plasma-therm RIE / ICP干法刻蚀设备

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产品描述

Plasma-Therm是致力于RIE/ICP的世界知名设备提供商, 产品涵盖2”~ 8”主流ICP干法刻蚀工艺,广泛应用于三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射频器件、VCSELs器件等化合物产业,以及MEMS和Si基半导体产业。


仪器简介

  • 1.配置:2”~8” 手动 / 半自动 / 全自动(片盒对片盒) /全自动多腔(片盒对片盒)
  • 2.领域 :三五族(GaAs / SiC),GaN功率及射频器件、VCSELs的器件等化合物产业及MEMS和Si基半导体产业等
  • 3.制程 : RIE / ICP

仪器特点

  • 1.刻蚀速率可调
  • 2.低损伤控制(专利技术)
  • 3.侧壁的角度和粗糙度控制技术
  • 4.极佳的刻蚀均匀性控制
  • 5.极佳的批次均匀性控制
  • 6.超长的平均开腔清洁时间间隔以及精准灵敏的刻蚀断点监测技术

应用领域

  • 1.三五族化合物半导体(GaAs / SiC,GaN功率及射频器件,InP器件,InSb锑化物器件)
  • 2.MEMS微机电
  • 3.滤波器器件
  • 4.石英基底的光通讯器件

GaAs Via VCSELs DBR VCSELs DBR
     
 SiC前表面 AlGaN(GaN)低损伤 AlGaN(GaN)低损伤
     
InSb InP InP

 

石英的Microlens  石英的Fresnel Lens